Устройство для жидкостной эпитаксии полупроводниковых пленок
Формула / Реферат
Предлагается устройство для жидкостной эпитаксии полупроводниковых пленок сдвигового типа, включающее подложкодержатель с выемкой для подложки и расположенный на нем блок с отверстием для расплава, размер которого в направлении движения подложкодержателя меньше длины выемки для подложки. Подложкодержатель имеет ступеньку, примыкающую к выемке для подложки и имеющую высоту не менее размера отверстия для расплава в направлении движения подложкодержателя. Устройство позволяет формировать однородные по поверхностному составу эпитаксиальные слои полупроводниковых твердых растворов.
Достигаемый технический результат - упрощение и большая надежность устройства.
МПК / Метки
МПК: H01L 21/208
Метки: устройство, жидкостной, пленок, эпитаксии, полупроводниковых
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-pp9566-ustrojjstvo-dlya-zhidkostnojj-epitaksii-poluprovodnikovyh-plenok.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Устройство для жидкостной эпитаксии полупроводниковых пленок</a>
Предыдущий патент: Способ анализа и синтеза шарнирно-рычажного механизма и устройство для его осуществления
Следующий патент: Гранулированное либо пеллетированное средство для защиты растений, способ его получения и способ борьбы с грибами
Случайный патент: Производные эритромицина, способы их получения и фармацевтическая композиция на их основе