Патенты с меткой «тонкопленочных»
Способ получения тонкопленочных структур на основе кремния
Номер инновационного патента: 30246
Опубликовано: 17.08.2015
Авторы: Чучвага Николай Алексеевич, Токмолдин Серекбол Жарылгапович, Омаров Марат Ахметович, Токмолдин Нурлан Серекболович, Клименов Василий Васильевич
МПК: C30B 29/06, C30B 30/02, C30B 30/04...
Метки: тонкопленочных, получения, структур, кремния, способ, основе
Формула / Реферат:
Изобретение относится к полупроводниковому приборостроению и солнечной энергетике и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых кремниевых структур. Демонстрируется способ оптимизации метода магнетронного распыления для получения тонкопленочных кремниевых структур посредством регулирования разности потенциалов между управляющим катодом и анодом магнетронной установки. Это позволяет варьировать условия осаждения тонких пленок,...
Способ получения тонкопленочных покрытий из нитрида титана
Номер предварительного патента: 11642
Опубликовано: 14.06.2002
Авторы: Деграф Геннадий Андреевич, Яр-Мухамедова Гульмира Шарифовна, Яр-Мухамедов Шариф Ханафиевич
МПК: C23C 14/34
Метки: способ, получения, титана, нитрида, тонкопленочных, покрытий
Формула / Реферат:
Изобретение относится к вакуумно-дуговому способу получения однотонных по цвету покрытий путем распыления титана в азотсодержащей среде при давлении 0,08-0,3 Па и плотности ионного тока 25-50 А/м2. Прочность сцепления покрытия с основой увеличивается.
Способ получения полупроводниковых тонкопленочных структур
Номер патента: 1312
Опубликовано: 15.09.1994
Автор: Таурбаев Токтар Искатаевич
МПК: H01L 21/78
Метки: тонкопленочных, полупроводниковых, структур, способ, получения
Формула / Реферат:
Изобретение относится к технологии полупроводниковых приборов и может быть использовано для разделения на кристаллы тонкопленочных полупроводниковых структур, используемых отдельно от затравочной подложки. Цель изобретения - расширение технологических возможностей способа за счет совмещения операций отделения структуры и разделения ее на кристаллы. При отделении от затравочной подложки выращенной на ней тонкопленочной полупроводниковой структуры...