Устройство потенциального псевдоожижения, предназначенное для транспортировки сыпучих материалов в сверхплотном слое

Номер патента: 28750

Опубликовано: 15.07.2014

Авторы: ПЕТИ, Жеффрэ, ЭМАТИ, Мерджи, РУССО, Жан-Марк

Скачать PDF файл.

Текст

Смотреть все

(51) 65 53/16 (2006.01) 65 53/20 (2006.01) КОМИТЕТ ПО ПРАВАМ ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ МИНИСТЕРСТВА ЮСТИЦИИ РЕСПУБЛИКИ КАЗАХСТАН(7),предназначенный для циркуляции сыпучего материала и упомянутого газа, при этом упомянутый нижний канал и упомянутый верхний канал разделены пористой стенкой (5), через которую может проходить упомянутый газ, при этом в нижний канал подают газ под давлением,которое обеспечивает потенциальное псевдоожижение упомянутого сыпучего материала в упомянутом верхнем канале, при этом упомянутый верхний канал оборудован в своей верхней части поперечными стенками (50), расположенными таким образом, что ограничивают вместе с верхней стенкой упомянутого верхнего канала, по меньшей мере, один свод, в котором образуется пузырек газа(20.1, 20.2) под давлением в результате создания давления потенциального псевдоожижения в упомянутом воздуховоде. На уровне, по меньшей мере, одного образовавшегося таким образом пузырька стенка верхнего канала содержит средство удаления псевдоожижающего газа, оборудованное средством создания разрежения (120.1, 120.2),которое создает по существу постоянное разрежение.(73) РИО ТИНТО АЛКАН ИНТЕРНЭШНЛ ЛИМИТЕД(54) УСТРОЙСТВО ПОТЕНЦИАЛЬНОГО ПСЕВДООЖИЖЕНИЯ, ПРЕДНАЗНАЧЕННОЕ ДЛЯ ТРАНСПОРТИРОВКИ СЫПУЧИХ МАТЕРИАЛОВ В СВЕРХПЛОТНОМ СЛОЕ(57) Устройство, позволяющее транспортировать сыпучий материал (12), содержащее транспортер(3), который содержит нижний канал (6), в котором ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ 1. Устройство транспортировки сыпучего материала (12) между зоной питания (1) и, по меньшей мере, одной питаемой зоной, содержащее транспортер (3), называемый воздуховодом,который содержит нижний канал(6),предназначенный для циркуляции газа, и верхний канал (7), предназначенный для циркуляции сыпучего материала и упомянутого газа, при этом упомянутый нижний канал и упомянутый верхний канал разделены пористой стенкой (5), через которую может проходить упомянутый газ, при этом нижний канал соединен с патрубком (8) подачи газа, выполненным с возможностью питания упомянутого нижнего канала газом под давлением р ,которое обеспечивает потенциальное псевдоожижение упомянутого сыпучего материала в упомянутом верхнем канале и которое называют давлением псевдоожижения,при этом упомянутый верхний канал оборудован в своей верхней части поперечными стенками (50, 51, 52 53 50., 50.), образующими препятствие для циркуляции упомянутого газа и упомянутого сыпучего материала, при этом упомянутые поперечные стенки расположены таким образом,что образуют вместе с верхней стенкой упомянутого верхнего канала, по меньшей мере, одно пространство, в котором образуется пузырек газа под давлением (20.1, 20.2 20., 20., 20.),имеющий заданное пузырьковое давление в результате создания давления потенциального псевдоожижения в упомянутом воздуховоде, при этом упомянутый воздуховод состоит из кессонов,каждый из которых соответствует данному пузырьку, при этом упомянутое устройство отличается тем, что на уровне, по меньшей мере,одного пузырька стенка верхнего канала оборудована средством удаления псевдоожижающего газа,соединяющим упомянутый пузырек с внешней средой и содержащим средство создания разрежения (100.1,100.2 110.1, 110.2 120.1, 120.2 130, 61, 62 140. ,140.(1), 140. ), которое создает по существу постоянное разрежение. 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что средство создания разрежения выполнено таким образом, чтобы упомянутое по существу постоянное 30 разрежение, создаваемое упомянутым средством,имело такое значение, при котором, если давление в упомянутой внешней среде является по существу постоянным, упомянутое пузырьковое давление поддерживается по существу постоянным между давлением псевдоожижения р и давлением упомянутой внешней среды. 3. Устройство по п.1 или 2, отличающееся тем,что на уровне каждого пузырька (20.1, 20.220.,20.(1)20.) стенка верхнего канал оборудована средством удаления псевдоожижающего газа,соединяющим упомянутый верхний канал с упомянутой внешней средой и содержащим средство создания разрежения, которое создает по существу постоянное разрежение. 4. Устройство по любому из п.п.1-3,отличающееся тем, что упомянутое средство удаления содержит, по меньшей мере, одно устройство разделения твердые вещества/газ. 5. Устройство по любому из п.п.1-3,отличающееся тем, что упомянутое средство удаления является упомянутым средством создания разрежения и выполнено в виде отверстия (100.1,100.2), смежного с огибающей объема, занимаемого упомянутым пузырьком,диаметр которого соответствует потере напора, обеспечивающей необходимое пузырьковое давление. 6. Устройство по любому из п.п.1-4,отличающееся тем, что упомянутое средство удаления псевдоожижающего газа является патрубком (30.1, 30.2), выходящим в верхний канал на уровне пузырька, как правило, в верхнюю стенку верхнего канала, при этом упомянутое средство создания разрежения является входным отверстием(110.1, 110.2) упомянутого патрубка, диаметр которого соответствует потере напора,обеспечивающей необходимое пузырьковое давление. 7. Устройство по п.6, отличающееся тем, что упомянутый патрубок (30.1, 30.2) оборудован разгрузочным вентилем (120.1, 120.2), содержащим отверстие переменного диаметра, что позволяет изменять потерю напора газа во время его удаления. 8. Устройство по п.4, отличающееся тем, что упомянутое средство удаления псевдоожижающего газа содержит камеру (60), которая выполнена в верхней части верхнего канала (7) и внутри которой

МПК / Метки

МПК: B65G 53/20, B65G 53/16

Метки: сыпучих, потенциального, слое, предназначенное, псевдоожижения, устройство, материалов, транспортировки, сверхплотном

Код ссылки

<a href="https://kz.patents.su/30-28750-ustrojjstvo-potencialnogo-psevdoozhizheniya-prednaznachennoe-dlya-transportirovki-sypuchih-materialov-v-sverhplotnom-sloe.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Устройство потенциального псевдоожижения, предназначенное для транспортировки сыпучих материалов в сверхплотном слое</a>

Похожие патенты