Способ ядерно-физического анализа сыпучих материалов
Номер предварительного патента: 13937
Опубликовано: 15.01.2004
Авторы: Петров Валерий Александрович, Петрова Евгения Викторовна
Формула / Реферат
Изобретение относится к способам анализа вещества и может найти применение в горнорудной, горнодобывающей и перерабатывающей областях промышленности. Техническим результатом изобретения является применение способа исследования в тонком слое для сыпучих материалов и снижение предела обнаружения определяемых элементов в таких материалах. Это достигается за счет того, что облучение пробы исследуемого материала, находящейся на дискообразном дне вращающейся кюветы, и регистрацию вторичного характеристического рентгеновского излучения от всей поверхности пробы вдоль спирали Архимеда от центра к краю дна кюветы осуществляют снизу через дно, выполненное из слабопоглощающего рентгеновское излучение материала, при этом на дне кюветы размещают опорную сетку, имплантированную или целиком выполненную из материала, с помощью характеристического рентгеновского излучения которого дополнительно возбуждают группу определяемых элементов.
МПК / Метки
МПК: G01N 23/223
Метки: анализа, способ, сыпучих, ядерно-физического, материалов
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-pp13937-sposob-yaderno-fizicheskogo-analiza-sypuchih-materialov.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Способ ядерно-физического анализа сыпучих материалов</a>
Предыдущий патент: Факельная горелка
Следующий патент: Прибор для измерения растяжения теста
Случайный патент: Фазогенератор Петли