Плазматрон для восстановления деталей

КОМИТЕТ ПО ПРАВАМ ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ МИНИСТЕРСТВА ЮСТИЦИИ РЕСПУБЛИКИ КАЗАХСТАН ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К ИННОВАЦИОННОМУ ПАТЕНТУ приспособлений таких, как сито, дозатор, весовой механизм, сушильные шкафы и т.д. Конструкция четырхзаходного порошкового дозатора,состоящего из обоймы и штуцеров, позволит совместить все эти операции. Подбором диаметров штуцеров можно регулировать процентное содержание компонентов. Для увеличения скорости истечения плазмы выполняется конусный ступенчато суживающийся к выходу рабочий канал сопла плазмотрона. Добавление ускорительных ступеней значительно увеличивает скорость полта частиц, что способствует лучшей адгезии покрытия. Для снижения пористости покрытия, плазменный пучок, на выходе из ускорителя, фокусируется установкой электромагнита. Заряженные частицы плазменной струи одновременно участвует в двух движениях они равномерно вращается со скоростью по окружности соленоида и движутся поступательно в направлении, перпендикулярном плоскости вращения, то есть частица движется по скручивающейся спирали, которая навивается на линию магнитной индукции поля.(72) Нураков Серик Нуракович Томашец Анатолий Константинович Савинкин Виталий Владимирович Кисилв Леонид Александрович(73) Нураков Серик НураковичСавинкин Виталий Владимирович(54) ПЛАЗМАТРОН ДЛЯ ВОССТАНОВЛЕНИЯ ДЕТАЛЕЙ(57) Изобретение относится к газоплазменной технологии нанесения покрытия, а в частности к устройствам плазмотронов. Новизна конструкции плазмотрона заключается в том, что плазмотрон состоит из четырхзаходного порошкового дозатора и конусообразной ступенчато суживающей насадки,с дополнительным электромагнитом,фокусирующим плазменную струю на выходе. Обычно при подготовке порошковой композиции,необходимой для плазменного напыления, требуется целый ряд устройств и 22452 Изобретение относится к газоплазменной технологии нанесения покрытия, а в частности к устройствам плазмотронов. Известен плазменный ускоритель с замкнутым дрейфом электронов. (патент РФ 2030134, кл. Н 05 Н 1/54, 1995 г.) Плазменный ускоритель содержит разрядную камеру с кольцеобразным ускорительным каналом,анод-газораспределитель с двумя каналами для подвода газа и подачи газа в ускорительный канал,магнитную систему с наружным внутренними полюсами, магнитопроводом с центральным сердечником и газоразрядный полый катодкомпенсатор,установленный за срезом ускорительного канала. Недостатком существующей конструкции плазмотрона является невысокая тяговая эффективность, высокая расходимость ускоренного плазменного потока и приводящая к распылению выходных кромок стенок ускорительного канала. Задача изобретения создание усовершенствованной конструкции плазмотрона,которая обеспечивает высокие требования по качеству напыленного слоя. Технический результат применения предлагаемой конструкции плазмотрона достижение высокого качества восстановленных поверхностей, которое зависит от конструктивного совершенствования, технологических параметров и режимов напыления плазмотрона и заключается в восстановлении и улучшении геометрических и физико-механических параметров напыленных поверхностей изношенных узлов и деталей. Новизна конструкции плазмотрона заключается в том, что плазмотрон состоит из четырхзаходного порошкового дозатора и конусообразной ступенчато суживающей насадки,с дополнительным электромагнитом, фокусирующим плазменную струю на выходе. Обычно при подготовке порошковой композиции,необходимой для плазменного напыления, требуется целый ряд устройств и приспособлений таких, как сито, дозатор, весовой механизм, сушильные шкафы и т.д. Конструкция четырхзаходного порошкового дозатора,состоящего из обоймы и штуцеров, позволит совместить все эти операции. Подбором диаметров штуцеров можно регулировать процентное содержание компонентов. Для увеличения скорости истечения плазмы выполняется конусный ступенчато суживающийся к выходу рабочий канал сопла плазмотрона. Добавление ускорительных ступеней значительно увеличивает скорость полта частиц, что способствует лучшей адгезии покрытия. Для снижения пористости покрытия, плазменный пучок на выходе из ускорителя фокусируется установкой электромагнита. Заряженные частицы плазменной струи одновременно участвует в двух движениях они равномерно вращается со скоростью по окружности соленоида и движутся поступательно в направлении, перпендикулярном плоскости вращения, то есть частица движется по скручивающейся спирали, которая навивается на линию магнитной индукции поля. Устройство работает следующим образом При подаче напряжения к плазмотрону в рабочей полости сопла (1), между катодом (2) и анодом (3) проскакивает разряд (микровзрыв), а через входной канал сопла (4) податся плазмообразующий газ (в нашем случае - пропан). В результате образуется плазма, которая под давлением переходит в ступенчатую насадку (5), в ступенях которой сжимается и приобретает некоторое ускорение. Через дозирующий штуцер (6) четырхзаходного дозатора (7) под давлением транспортирующего газа податся порошковая композиция (напыляемый материал), который расплавляясь в плазменной струе распыляется на срезе насадки. После чего плазменная струя попадает в рабочую камеру электромагнита (8), где из-за магнитного поля соленоида сжимается и на выходе к напыляемой поверхности детали мы имеем сфокусированную плазменную струю. На фиг. 1 -Устройство плазмотрона Плазмотрон состоит 1 - сопло плазмотрона 2 - катод 3 - анод 4 - входной канал сопла 5 - ступенчатая насадка 6 - дозирующий штуцер 7 - обойма дозатора 8 - электромагнит ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ 1. Устройство плазмотрона, состоящее из разрядной камеры, ускорителя, отличающееся тем,что порошковый дозатор имеет четыре входа. 2. Устройство плазмотрона по п.1 отличающееся тем, что выполняется конусный ступенчато суживающийся к выходу рабочий канал сопла плазмотрона. 3. Устройство плазмотрона по п.1 отличающееся тем, что для фокусирования плазменной струи устанавливается дополнительный фокусирующий соленоид.