Способ очистки поверхности ленты плазмой
Формула / Реферат
Изобретение относится к области подготовки поверхностей к нанесению покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической и других отраслях промышленности.
Способ очистки поверхности ленты включает обработку плазмой низкого давления в скрещенных магнитном и электрическом полях.
Новым по отношению к известным является то, что с ленты распылением совместно с инородными слоями снимают слой материала основы, превышающий половину суммарной толщины инородных слоев, причем ленту используют в качестве мишени-катода, квазибесконечно перемещаемого в одном направлении относительно магнитного и электрического полей.
Технический результат от совокупности влияния признаков, предлагаемых в изобретении, заключается в повышении эффективности очистки поверхности.
МПК / Метки
МПК: C23G 5/00
Метки: очистки, ленты, поверхности, плазмой, способ
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-pp8153-sposob-ochistki-poverhnosti-lenty-plazmojj.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Способ очистки поверхности ленты плазмой</a>