Сосуд высокого давления и способ заполнения газом сосуда высокого давления
Формула / Реферат
Изобретение относится к области машиностроения и может быть использовано в других областях народного хозяйства для хранения сжатых газов.
Увеличение количества размещаемого в сосуде сжатого газа, снижение металлоемкости сосуда, а также простота изготовления сосуда и способа заполнения его газом достигается тем, что сосуд высокого давления содержит коаксиально расположенные друг в друге внутреннюю 1, внешнюю 2 емкости и систему подвода напорной среды, состоящую из золотника управления 3 с тарированной пружиной 4, распределительным плунжером 5 и обратным клапаном 6, емкости имеют одинаковые объемы. Размещают газ следующим образом. На первом этапе газ нагнетают одновременно во внутреннюю 1 и внешнюю 2 емкости до полного заполнения последней, затем подачу газа во внешнюю емкость прекращают и заполняют внутреннюю емкость, при этом после заполнения давление сжатого газа по внутренней емкости должно быть больше давления во внешней емкости на величину давления во внешней емкости.
МПК / Метки
МПК: F17C 1/00
Метки: высокого, давления, сосуд, газом, заполнения, сосуда, способ
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-pp5348-sosud-vysokogo-davleniya-i-sposob-zapolneniya-gazom-sosuda-vysokogo-davleniya.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Сосуд высокого давления и способ заполнения газом сосуда высокого давления</a>
Предыдущий патент: Мембранное предохранительное устройство
Следующий патент: Система пассивного солнечного отопления
Случайный патент: Геодезическая зонная марка дифракционного створофиксатора