Способ детоксикации при синдроме системного воспалительного ответа
Номер предварительного патента: 17726
Опубликовано: 15.09.2006
Авторы: Миербеков Ергали Маматович, Батырханова Нурниса Муратовна
Формула / Реферат
Изобретение относится к медицине, в частности к интенсивной терапии и может быть использовано для лечения больных с синдромом системного воспалительного ответа в раннем послеоперационном периоде.
В способе детоксикации при синдроме системного воспалительного ответа, включающем забор крови больного и осуществление дискретного плазмафереза с отделением плазмы от эритроцитарной массы с возмещением объема плазмы, обработку эритроцитарной массы с последующим введением в организм больного, согласно изобретению, аутоэритроцитарную массу фотомодифицируют путем внутрисосудистого облучения гелий-неоновым лазером с длиной волны 0,63 мкм, мощностью 20 мВт, а объем плазмы возмещают инфузионными средами, также обработанными гелий-неоновым лазером с длиной волны 0,63 мкм, мощностью 20 мВт, при этом адекватность процедуры контролируют реографическим мониторингом.
Предложенный способ детоксикации при синдроме системного воспалительного ответа обеспечивает высокую эффективность лечения.
МПК / Метки
МПК: A61M 1/36, A61N 5/067
Метки: системного, воспалительного, ответа, детоксикации, способ, синдроме
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-pp17726-sposob-detoksikacii-pri-sindrome-sistemnogo-vospalitelnogo-otveta.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Способ детоксикации при синдроме системного воспалительного ответа</a>
Предыдущий патент: Ортопедическая полустелька
Следующий патент: Способ преобразования молекул
Случайный патент: Устройство автомобильного пьезоэлектрического генератора