Резонансная установка для определения кинетики структурообразования материалов при положительных и отрицательных температурах
Номер предварительного патента: 11046
Опубликовано: 14.12.2001
Авторы: Ахметов Иманали Сейдувалиевич, Кошкодан Сергей Иванович, Мауль Василий Петрович, Зябликов Дмитрий Петрович
Формула / Реферат
Резонансная установка предназначена для определения кинетики структурообразования при твердении вяжущих материалов, например цемента, находящихся в условиях положительных и отрицательных температур.
Для определения с высокой точностью кинетики структурообразования вяжущих материалов в условиях замораживания и оттаивания в установке вместо генератора колебаний звуковой частоты с лимбом, индикатора резонанса и частотомера использован персональный компьютер с аналого-цифровым и цифро-аналоговым преобразователями.
Резонансная установка для определения кинетики структурообразования материалов при положительных, отрицательных температурах и последующем оттаивании позволяет оценить влияние различных физических, физико-химических и механических способов воздействия на структуру вяжущих материалов при использовании последних в зимних условиях с наименьшими затратами труда и времени и с высокой точностью.
МПК / Метки
МПК: G01N 29/00
Метки: отрицательных, материалов, резонансная, определения, структурообразования, температурах, положительных, кинетики, установка
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-pp11046-rezonansnaya-ustanovka-dlya-opredeleniya-kinetiki-strukturoobrazovaniya-materialov-pri-polozhitelnyh-i-otricatelnyh-temperaturah.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Резонансная установка для определения кинетики структурообразования материалов при положительных и отрицательных температурах</a>
Предыдущий патент: Способ извлечения ванадия из конвертерных ванадиевых шлаков
Случайный патент: Способ производства биологически активного препарата "БЕТА"