Ампульное устройство
Номер предварительного патента: 1449
Опубликовано: 15.12.1994
Авторы: Соловьев Юрий Александрович, Маратканов Василий Николаевич
Формула / Реферат
Ампульное устройство относится к радиационному материаловедению, а конкретно к технологии облучения образцов в ядерном реакторе. Исследования проводят при определенной температуре,плавное регулирование которой и составляет задачу изобретения. В предлагаемом ампульном устройстве образцы установлены в емкости,заполненной жидким металлом и отделенной от потока охлаждающей жидкости стенкой с газовым зазором,которой соединен с верхней частью емкости, заполненной водой и имеющей электронагреватель. Теплопроводность водяного пара в зависимости от давления изменяется весьма существенно,что и позволяет, изменяя подвод тепла через электронагреватель,изменять теплопередачу через стенку, а значит и температуру образцов.
МПК / Метки
МПК: G01K 17/06
Метки: устройство, ампульное
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-pp1449-ampulnoe-ustrojjstvo.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Ампульное устройство</a>
Предыдущий патент: Металлическая податливая шахтная крепь
Следующий патент: Способ обнаружения антител к вирусу краснухи в реакции торможения гемагглютинации
Случайный патент: Чертежный станок