Способ очистки отходящих технологических газов от диоксида серы

Формула / Реферат

Изобретение относится к способу очисткитехнологических газов от диоксида серы и можетбыть использовано на энергетическихпредприятиях, на предприятиях металлургическойи химической промышленности. Способ очисткиотходящих технологических газов от диоксидасеры включает непрерывное противоточноеступенчатое контактирование газов с воднойпульпой предварительно измельченногоизвестняка. Исходную водную пульпу, содержащуюдо 60 г/дм3 известняка, подают на очистку вколичестве, обеспечивающем молекулярноесоотношение диоксида серы и карбоната кальция всмешиваемых потоках пульпы и газа в пределах 1-2.Способ позволяет повысить степень очисткиотходящих технологических газов от диоксидасеры и одновременно снизить расход известняка.

МПК / Метки

МПК: B01D 53/34

Метки: технологических, диоксида, очистки, отходящих, газов, способ, серы

Код ссылки

<a href="https://kz.patents.su/0-pp13424-sposob-ochistki-othodyashhih-tehnologicheskih-gazov-ot-dioksida-sery.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Способ очистки отходящих технологических газов от диоксида серы</a>

Похожие патенты