Способ очистки отходящих технологических газов от диоксида серы
Номер предварительного патента: 13424
Опубликовано: 15.09.2003
Авторы: Чучалин Лев Климентьевич, Покровский Александр Львович, Копанев Александр Михайлович, Русаков Анатолий Андреевич
Формула / Реферат
Изобретение относится к способу очисткитехнологических газов от диоксида серы и можетбыть использовано на энергетическихпредприятиях, на предприятиях металлургическойи химической промышленности. Способ очисткиотходящих технологических газов от диоксидасеры включает непрерывное противоточноеступенчатое контактирование газов с воднойпульпой предварительно измельченногоизвестняка. Исходную водную пульпу, содержащуюдо 60 г/дм3 известняка, подают на очистку вколичестве, обеспечивающем молекулярноесоотношение диоксида серы и карбоната кальция всмешиваемых потоках пульпы и газа в пределах 1-2.Способ позволяет повысить степень очисткиотходящих технологических газов от диоксидасеры и одновременно снизить расход известняка.
МПК / Метки
МПК: B01D 53/34
Метки: технологических, диоксида, очистки, отходящих, газов, способ, серы
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-pp13424-sposob-ochistki-othodyashhih-tehnologicheskih-gazov-ot-dioksida-sery.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Способ очистки отходящих технологических газов от диоксида серы</a>
Предыдущий патент: Способ переработки свинцового промпродукта
Следующий патент: Вибросито вертикальное погружное
Случайный патент: Устройство для тренировки лошадей