Способ очистки газов от фосфина, фосфора, пентоксида фосфора и фтористого водорода
Номер патента: 5898
Опубликовано: 14.01.2000
Авторы: Карпенко Вера Александровна, Балабеков Оразалы Сатимбекович, Юнусов Учкун Исмаилович, Сулейменова Сапия Жаппаровна, Багажов Паша Мажитович, Сулейменов Майдан Кадырович
Формула / Реферат
Изобретение относится к очистке отходящих газов химических производств, в частности, отходящих газов производства и переработки желтого фосфора.
Для комплексной очистки газов от фосфина, фосфора, пентоксида фосфора и фтористого водорода отходящие газы пропускают через непористую полимерную мембрану, в качестве которой используют пленку из полипропилена или сополимера тетрафторэтилена и гексафторпропилена.
Способ позволяет обеспечить эффективную комплексную очистку отходящих газов производства и переработки фосфора от, %:
фисфина - 59,7-98,5
фосфора - 45,8-98,2
пентоксида фосфора - 64,5-99,2
фтористого водорода - 51,8-100.
МПК / Метки
МПК: B01D 53/22
Метки: пентоксида, фосфора, фосфина, фтористого, водорода, способ, газов, очистки
Код ссылки
<a href="https://kz.patents.su/0-5898-sposob-ochistki-gazov-ot-fosfina-fosfora-pentoksida-fosfora-i-ftoristogo-vodoroda.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Способ очистки газов от фосфина, фосфора, пентоксида фосфора и фтористого водорода</a>
Предыдущий патент: Способ получения катализатора для очистки отходящих газов
Следующий патент: Способ приготовления эмульсионных взрывчатых веществ на основе порохов
Случайный патент: Питательная среда для выращивания бруцелл